| 公開(公告)號 | CN1835934A |
| 公開(公告)日 | 2006.09.20 |
| 申請(專利)號 | CN200480002095.5 |
| 申請日期 | 2004.01.16 |
| 專利名稱 | 作為環(huán)加氧酶抑制劑的噁唑衍生物 |
| 主分類號 | C07D263/32(2006.01)I |
| 分類號 | C07D263/32(2006.01)I;C07D263/38(2006.01)I;A61K31/42(2006.01)I |
| 分案原申請?zhí)? | |
| 優(yōu)先權(quán) | 2003.1.17 AU PR2003900207;2003.3.31 AU PR2003901873 |
| 申請(專利權(quán))人 | 安斯泰來制藥有限公司 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人 | 山本博文;石田淳也;田名部大輔;佐藤茂樹;澤田由紀(jì);大川武彥;今村健一郎;中村克哉 |
| 地址 | 日本東京都 |
| 頒證日 | |
| 國際申請 | 2004-01-16 PCT/JP2004/000339 |
| 進入國家日期 | 2005.07.12 |
| 專利代理機構(gòu) | 中國專利代理(香港)有限公司 |
| 代理人 | 王景朝 |
| 國省代碼 | 日本;JP |
| 主權(quán)項 | 一種式(I)化合物或其藥學(xué)上可接受的鹽： 其中 R1為氫、(低級)烷基、由下文所述取代基(i)取代的(低級)烷基、(低級)鏈烯基、(低級)炔基、環(huán)烷基、芳基、飽和雜環(huán)基、雜芳基、(低級)烷氧基、由下文所述取代基(i)取代的(低級)烷氧基、(低級)鏈烯氧基、(低級)炔氧基、環(huán)烷基氧基、芳基氧基、雜芳基氧基、(飽和雜環(huán)基)氧基、氨基、[(低級)烷基]氨基、二[(低級)烷基]氨基、由下文所述取代基(i)在(低級)烷基上取代的二[(低級)烷基]氨基、[(低級)�；鵠氨基、環(huán)烷基氨基、芳基氨基、(飽和雜環(huán)基)氨基、雜芳基氨基、氨基甲�；�、由下文所述取代基(ii)取代的氨基甲酰基、(低級)酰基、環(huán)烷基羰基、芳基羰基、(飽和雜環(huán)基)羰基、雜芳基羰基、[(低級)烷氧基]羰基、[(低級)烷基]硫代、由下文所述取代基(i)取代的[(低級)烷基]硫代、[(低級)烷基]亞磺酰基、[(低級)烷基]磺�；�、氰基、羧基、羥基、巰基或鹵素； R2為(低級)烷基、飽和雜環(huán)基、(低級)烷氧基或氰基； R3為(低級)亞烷基、(低級)亞鏈烯基或共價鍵； R4為(低級)亞烷基、(低級)亞鏈烯基或共價鍵； R5為氫、(低級)烷基、芳基、雜芳基、(低級)烷氧基、[(低級)酰基]氧基、[(低級)烷基]磺酰氧基、[三(低級)烷基]甲硅烷基氧基、氨基、[(低級)烷基]氨基、二[(低級)烷基]氨基、[(低級)酰基]氨基、[(低級)烷氧基]羰基氨基、[(低級)烷基]磺�；被㈦s芳硫基羰基氨基、氨基甲�；被⒂上挛乃鋈〈�(ii)在氨基甲�；先〈陌被柞；被�、可由下文所述取代基(iii)在芳基上取代的芳基氧基羰基氨基、[(低級)烷氧基]羰基、羥基、氰基或疊氮基； X為″O″、″S″、″SO″或″SO2″； Y為″CH″或″N″； n為0或1； 取代基(i)選自(低級)烷基、環(huán)烷基、芳基、雜芳基、(低級)烷氧基、[(低級)�；鵠氧基、芳基[(低級)烷基]氧基、[(低級)烷基]磺酰氧基、氨基、[(低級)烷基]氨基、二[(低級)烷基]氨基、[(低級)�；鵠氨基、氨基甲�；被�、[(低級)烷基氨基甲�；鵠氨基、[二(低級)烷基氨基甲�；鵠氨基、[(低級)烷氧基羰基]氨基、[(低級)烷氧基]羰基、[(低級)烷基]硫代、芳硫基、雜芳硫基、羧基、羥基、羥基亞氨基和鹵素； 取代基(ii)選自(低級)烷基、由羥基取代的(低級)烷基、由氨基甲�；〈�(低級)烷基、由(低級)烷氧基取代的(低級)烷基、(低級)烷氧基、氨基、[(低級)烷基]氨基和二[(低級)烷基]氨基； 取代基(iii)選自(低級)烷基、(低級)烷氧基、硝基和氰基。 |
| 摘要 | 一種式(I)化合物或其藥學(xué)上可接受的鹽：其中R1為環(huán)烷基等；R2為(低級)烷氧基等；R3為(低級)亞烷基等；R4為(低級)亞烷基等；R5為羥基等；X為“O”、“S”、“SO”或“SO2”；Y為“CH”或“N”；n為0或1；其可用作藥物。 |
| 國際公布 | 2004-08-05 WO2004/065374 英 |
